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淺析實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)的清洗原理

更新日期:2024-10-16      點(diǎn)擊次數(shù):1005
  實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體柔柔沖洗被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
 

實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)

 

  實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料,在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
 
  實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)的清洗原理是通過(guò)化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理,實(shí)現(xiàn)分子水平的污染物去除,從而提高工件表面的活性。被清除的污染物可能為有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對(duì)應(yīng)不同的污染物,應(yīng)采用不同的清洗工藝,根據(jù)選擇的工藝氣體不同,等離子清洗分為化學(xué)清洗、物理清洗及物理化學(xué)清洗。
 
  1、化學(xué)清洗:表面作用以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗,氧等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。氫等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層,清潔金屬表面。
 
  2、物理清洗:表面作用以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能,然后轟擊在放在負(fù)電極上的被清洗工件表面,一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹脂溢出或是微顆粒污染物,同時(shí)進(jìn)行表面能活化。
 
  3、物理化學(xué)清洗:表面作用中物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)均起重要作用。
 
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